拋光粉具體的性能指標(biāo)有哪些？拋光粉的性能如何？你都了解多少呢？高閣拋光的小編為您在線解答疑問。拋光粉顆粒巨細(xì)：決定了拋光精度和速率，一般用目數(shù)和均勻顆粒大小來表征。過篩目數(shù)反應(yīng)了顆粒的大小，均勻粒度決定了廢拋光粉顆粒大小的整體程度。
拋光粉的硬度：硬度大的顆粒具有較快的切削率，參加助磨劑也能夠或許進(jìn)步切削率。
拋光粉的懸浮性：高速拋光懇求拋光粉具有較好的懸浮性，顆粒外形和大小對懸浮性有較大影響，片狀的拋光粉和小顆粒的拋光粉的懸浮性較好。懸浮性的進(jìn)步也能夠或許經(jīng)過參加懸浮劑來完結(jié)。
拋光粉的顆粒布局：顆粒布局是團(tuán)圓體顆粒照樣單晶顆粒決定了拋光粉的耐磨性和流動(dòng)性。團(tuán)圓體顆粒在拋光進(jìn)程中會(huì)決裂，然后招致耐磨性下降，單晶顆粒具有好的耐磨性和流動(dòng)性。
拋光粉的顏色：與質(zhì)料中的鐠含量和溫度無關(guān)，鐠含量越高，拋光粉越顯棕赤色。低鈰拋光粉中含有大批的鐠，因而顯棕赤色。對純氧化鈰拋光粉，焙燒溫度高，拋光粉的顏色偏白紅，溫度低，顏色偏淺黃。
CMP技巧歸納了化學(xué)和機(jī)器拋光的上風(fēng)：純真的化學(xué)拋光，拋光速率較快，外面光潔度高，毀傷低，完善性好，但外面平整度和平行度差，拋光后外面平等性差；純真的機(jī)器拋光外面平等性好，外面 平整度高，但外面光潔度差，毀傷層深。化學(xué)機(jī)器拋光能夠或許得到較為完善的外面，又能夠或許得到較高的拋光速率，得到的平整度比其余辦法高兩個(gè)數(shù)量級，是今朝能夠或許完結(jié)全局平面化的獨(dú)一有用辦法。
根據(jù)機(jī)器加工道理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化實(shí)踐、外面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)根底實(shí)踐等，對硅單晶片化學(xué)機(jī)器拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制進(jìn)程和影響身分研討表明，化學(xué)機(jī)器拋光是一個(gè)繁雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)進(jìn)程：
（1）拋光首要使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片外面的硅原子在外面中止氧化復(fù)原的動(dòng)力學(xué)進(jìn)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。
（2）拋光外面反應(yīng)物脫離硅單晶外面，即解吸進(jìn)程使未反應(yīng)的硅單晶從新暴露進(jìn)去的動(dòng)力學(xué)進(jìn)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)嚴(yán)重進(jìn)程。硅片的化學(xué)機(jī)器拋光進(jìn)程因而化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)器拋光進(jìn)程，要得到質(zhì)量好的拋光片。
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